基本參數(shù)：

真空等離子清洗機(jī)清洗原理：

等離子清洗原理如下：等離子清洗簡(jiǎn)稱干法清洗，是設(shè)備利用射頻等離子源的激發(fā)，使工藝氣體激發(fā)成為離子態(tài)，與清洗材質(zhì)表面的污染物發(fā)生物理和化學(xué)反應(yīng)，通過真空泵將反應(yīng)產(chǎn)生的污染物排走，達(dá)到清洗效果。

等離子體是在膠體內(nèi)包括足夠多的正負(fù)電荷數(shù)量，且正負(fù)電荷數(shù)目相當(dāng)?shù)膸щ娏Ｗ拥奈镔|(zhì)堆積狀態(tài)，或者是由大量帶電粒子組成的非凝聚系統(tǒng)。等離子體中包括正負(fù)電荷和亞穩(wěn)態(tài)的分子和原子等。一方面，當(dāng)各種活性粒子與被清洗物體表面彼此碰觸時(shí)，各種活性粒子與物體表面雜質(zhì)污物會(huì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成易揮發(fā)性的氣體等物質(zhì)，隨后易揮發(fā)性的物質(zhì)會(huì)被真空泵吸走。例如，活性氧等離子體與材料表面的有機(jī)物發(fā)生氧化反應(yīng)。它的優(yōu)點(diǎn)是清洗過程相對(duì)較快、選擇性相對(duì)好以及清除污染物的效果非常好，缺點(diǎn)是產(chǎn)品外表面發(fā)生氧化產(chǎn)生氧化物，附著在產(chǎn)品表面。另一方面，各種活性粒子會(huì)轟擊清洗材料表面，使得材料表面的沾污雜質(zhì)會(huì)隨氣流被真空泵吸走。這種清洗方式本身不存在化學(xué)反應(yīng)，在被清潔材料表面沒有留下任何氧化物，因此可以很好地保全被清洗物的純凈性，保障材料的各向異性。但是，它會(huì)對(duì)材料表面造成很大損傷和侵蝕，會(huì)在材料表面發(fā)生很大的反應(yīng)熱，對(duì)被清洗表面的雜質(zhì)污物選擇性差。例如，用活性氬等離子體清洗物件表面微粒污染物，活性氬等離子體轟擊被清洗件表面后產(chǎn)生的揮發(fā)性污染物會(huì)被真空泵排出。

在實(shí)際生產(chǎn)中可使用化學(xué)方法和物理方法同時(shí)進(jìn)行清洗。它的清洗速率通常比單獨(dú)使用物理清洗或化學(xué)清洗快。但考慮到一些氣體的易爆性能，需嚴(yán)格控制混合氣體中各氣體的占比，使其含量搭配合理。

等離子清洗可應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)、薄膜電路、元器件封裝前、連接器粘接等行業(yè)的二次精密清洗。